Silisyum karbür odaklama halkası seramik malzeme
Silisyum karbür odaklama halkası seramik malzeme Yarı iletken teknolojisinin gelişmesiyle birlikte, plazma aşındırma yavaş yavaş yarı iletken üretim süreçlerinde yaygın olarak kullanılan bir teknoloji haline geldi. Plazma aşındırma ile üretilen plazma oldukça aşındırıcıdır ve ayrıca gofret aşındırma işlemi sırasında işlem odası boşluğunda ve boşluktaki bileşenlerde ciddi korozyona neden olur. Bu nedenle yarı iletken işleme ekipmanlarında



